Language
曝光方式
直描式
基板尺寸
334×334~534×622mm
曝光光源
Laser Diode / 405nm
解像性能
L/S = 12/12μm
對位
±10μm
基板流向
右→左(R流) ※單面機
真空密著方式
250×300~510×610mm
2燈式/5kW超高壓水銀燈
SRO = Φ50 μm
±5μm
右→左(R流)
250×300~535×625mm
1燈式/5kW超高壓水銀燈
L/S = 40/40μm
左→右(L流)
加壓密著方式
①:左→右(L流) ②:左→右(L流)
1燈式/5KW超高壓水銀燈
2燈式/10kW金屬鹵素燈
φ100μm
254×305~559×635mm
L/S = 75/75μm
±10μm/±5μm
①:右→左(R流) ②:左→右(L流)
250mm或500mm
真空密着方式
250×330~535×635mm
5kW超高壓水銀燈
右→左(R流)
250×250~535×635mm
―
334×334~551×640mm
鐳射二極管/ 375+405nm
L/S = 15/15 μm
±7.5μm
①:右→左(R流) ②:左→右(L流)